重磅！美又将光刻、5纳米等六项新兴技术列入出口管制清单

近日美国商务部工业安全局（BIS）宣布，将六项新兴技术，添加到《出口管理条例》（EAR）的商务部管制清单（CCL）中。

本次被增列商业管制清单的六项新兴技术为：

• 混合增材制造/计算机数控工具；

• 特定的计算光刻软件；

• 用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术；

• 有限的数字取证分析工具；

• 用于监测电信服务通信的某些软件

• 亚轨道航天器

据报道，随着美国与中国在下一代技术领域的竞争加剧，这份清单是特朗普政府加强对技术出口控制的措施之一。

有关限制新兴技术和基础技术出口的提议最初是在2018年宣布的，当时美国已经开始打击中国智能手机生产商和5G技术巨头华为和中兴。

但重新确定清单的过程缓慢，因为需要在维护所谓国家安全和避免抑制外国投资和国内产业创新之间取得微妙的平衡。

为落实这份拖延已久的清单，美国商务部周一结束了长达57天的征求公众意见期，完成收集业界对如何确定、定义和制定“基础技术”标准的意见，相关技术历来没有类似规则约束。

自《出口管制改革法》2018年8月签署成为法律以来，美国商务部一直在进行重新分类“新兴和基础技术”的审查。

这个过程分为两个部分，商务部首先明确14个类别的“新兴技术”，包括生物技术、人工智能和机器人技术。

目前已经敲定4个类别，其中包括用于化学武器的特定化学品和用于地理空间分析的人工智能技术。

任何新兴技术和基础技术都将被视为“关键技术”，所有这些技术都可能被强制要求向美国外国投资委员会报备。该委员会是一个审查外国收购美国资产的行为是否影响美国国家安全的机构。

由于技术更新换代很快，“基础”技术更难界定。美国外国投资委员会只是大概描述可能被视为基础技术的一般类别。

它们包括一般用于军事目的的产品、大规模武器生产所需的软件和技术，以及可能提升相关国家对外情报能力的产品。

美国最新实施出口管制的六大技术，都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关。

涵盖EUV光刻所需的特定软件，包括与三维（3D）效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件，这类软件是在晶圆上做出经过优化的光刻胶图案必需的软件。

目前全世界唯一能生产EUV光刻机的，企业只有荷兰ASML公司，而ASML最大的两大股东：资本国际集团(MSCI)和贝莱德集团(BlackRock,Inc.)，都是美国公司，其用于打造EUV光刻机的高精技术，也有不少为美国所持有。

美国商务部直接封锁了高端芯片的制造技术，针对的是谁，不用多说。

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巴黎雷欧

巴黎旅游文化协会、巴黎旅游评级机构、巴黎

远东艺术馆，全球版权交易机构、巴黎邮报、

莱特CN……推荐艺术顾问、评论家、法国旅游

咨询专家。

Léo，即雷欧，早年出版过文集《在成长》，

近年出版有论著《跨国公司内部谈判》（法文

版）《人际关系十二讲》（英文版）《远东文

化艺术》（法文版）《巴黎雷欧艺术评论》（

系列）《雷欧带你认识法国》《雷欧带你识巴

黎》等。